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NI LabVIEW RIO架构新增即插即用USB
时间:2025-07-08 05:43:45

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同时,新增通过矢量压电显微镜(PFM)对双层的域结构进行了表征。结合面外和面内偏振信息,架构即插即用红色圆圈纳米域的极性纹理如图1c所示,表明这些红色圆圈纳米域是Néel型skyrmion状纳米域。

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新增在硅上集成高密度可切换类skyrmion极性纳米域可以实现在氧化物中使用拓扑极性结构的非易失性存储器应用。按照先前研究中提出的方法,架构即插即用本文的平面矢量PFM映射显示的红色圆圈纳米域具有中心发散模式(图2b)。图三、新增PTO/STO双层中类skyrmion纳米域的有效哈密顿模型模拟图四、新增集成在硅上的极性纳米域的电阻行为【小结】综上所述,本文报告了在PbTiO3/SrTiO3中观察到两种类型(中心发散和中心收敛)的skyrmion状极性纳米域,可以通过施加外部电场相互转换。

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【引言】最近的发现表明,架构即插即用铁电极化可以形成复杂的拓扑结构,包括磁通闭合域、涡旋、极性skyrmion(斯格明子)、 merons 等。到目前为止,新增这种拓扑极性结构仅在氧化物衬底上生长的超晶格中观察到,这限制了它们在硅基电子产品中的应用。

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由于极化和电荷分布的不连续性,架构即插即用非均匀的极性纹理可能会产生与体相不同的涌现功能,在下一代电子设备中具有新应用的潜力。

此外,新增在没有多层纳米域之间的干扰的情况下,它可以通过PFM测量直接映射偏振模式,这实际上是一种非破坏性的读取操作。不过,架构即插即用在4S店贴膜是最完美的选择么?其实不能这么确定

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